Recherche

Intérêts de recherche

Notre groupe effectue des travaux de recherche fondamentale et appliquée portant sur des matériaux de pointe pour des applications de haute technologie, notamment en microélectronique et en optoélectronique. Notre objectif principal est de développer une solide compréhension des interactions atome/surface lors de la croissance cristalline dans des conditions fortement hors équilibre afin de contrôler la microstructure et la microchimie des couches minces à l'échelle atomique. Notre programme de recherche comprend des études complémentaires de croissance épitaxiale, de caractérisation des propriétés physiques, de fabrication de dispositifs et de modélisation. Les résultats de ces travaux servent de base au développement de nouveaux procédés de synthèse et de traitement des couches minces.

Plus particulièrement, nos sujets de recherche actuels sont :

la croissance épitaxiale d'hétérostructures avancées d'alliages de semi-conducteurs III-V pour la microélectronique et l'optoélectronique
la microstructure et la morphologie de surface des couches hétéroépitaxiales sous contraintes
la synthèse de boîtes quantiques auto-assemblées InAs/InP et leur intégration dans des dispositifs optoélectroniques
les siliciures et les barrières de diffusion pour l'industrie de la microélectronique
la simulation de la croissance épitaxiale
le devéloppement d'une plate-forme de test pour les dispositifs nanoélectronique et les interfaces organique/inorganique
la caractérisation structurale de couches minces et de multicouches par diffraction de rayons x à haute-résolution, réflectivité spéculaire des rayons x et microscopie électronique en transmission

Unité(s) de recherche

Laboratoire pour l'analyse de la surface des matériaux (LASM), Responsable
Regroupement québécois sur les matériaux de pointe (RQMP), Responsable
Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces (GCM), Directeur

Sujets CRSNG

3303 Surfaces, interfaces et couches minces
3304 Semiconducteurs